欧美色盟,色婷婷AV一区二区三区之红樱桃,亚洲精品无码一区二区三区网雨,中国精品视频一区二区三区

歡迎來到-化學加-六摩爾!客服熱線:186-7688-2001

江南大學劉小浩Chem Catal.:超細CeO?納米島助力CH?干重整無副反應、無失活運行2000小時

來源:江南大學      2024-12-06
導讀:本文提出一種簡單而有效的干重整催化劑設計策略。首先利用Stober法合成直徑約為250-300nm的球形SiO2,然后采用靜電吸附法將尺寸約為1.5nm的超細CeO2納米團簇均勻分散在SiO2表面,最后采用傳統的浸漬法將尺寸約為25-30nm的鎳納米粒子負載到超細CeO2納米島修飾的球形SiO2載體表面,進而獲得具有高活性、超穩定的鎳基干重整反應催化劑。

1.png

第一作者:李玉峰、李真薇

通訊作者:劉小浩

通訊單位:江南大學化學與材料工程學院

論文鏈接:https:// doi.org/10.1016/j.checat.2024.101189
甲烷干重整(DRM)反應是實現溫室氣體甲烷(CH4)和二氧化碳(CO2)高效轉化為合成氣(CO + H2)的重要途徑,產物合成氣可用于生產多種優質燃料和高價值的化工產品。傳統的鎳基催化劑在高溫反應條件下(大于800 °C)容易發生金屬納米粒子燒結和積炭,導致穩定性較差。為此,本文提出一種簡單而有效的干重整催化劑設計策略。首先利用Stober法合成直徑約為250-300nm的球形SiO2,然后采用靜電吸附法將尺寸約為1.5nm的超細CeO2納米團簇均勻分散在SiO2表面,最后采用傳統的浸漬法將尺寸約為25-30nm的鎳納米粒子負載到超細CeO2納米島修飾的球形SiO2載體表面,進而獲得具有高活性、超穩定的鎳基干重整反應催化劑(圖1)。設計這種模型結構的催化劑具有如下優勢:(1)催化劑中較大尺寸的鎳納米顆粒有利于抑制其在反應過程中燒結。(2)更重要的是,超細CeO2納米島通過與Ni納米粒子之間可控電子轉移,實現對CH4的可控活化。可控電子轉移可以通過控制SiO2表面CeO2納米島的濃度來實現。(3)同時,這些高度配位不飽和CeO2納米島的引入,通過Ni向CeO2傳遞電子或載體表面豐富的CeO2氧空位極大地促進CO2的吸附與活化,加速催化劑表面CH4裂解產生的碳物種的消除。這種納米島上活化生成的“活性氧”物種能有效緩解Ni金屬表面活性位點的氧化失活,同時有效提高碳物種消除能力。此外,帶正電荷的超細CeO2納米島實現了對SiO2載體表面Si-OH負電荷的覆蓋,進而通過“疏碳效應”,調控催化劑積碳的類型與落位,抑制了積碳對Ni活性位點的覆蓋。

2.png

圖1. 催化劑結構模型和甲烷干重整反應過程示意圖


研究亮點

1. 超細(1-1.5nm)CeO2納米島分散在球形SiO2表面,通過可控調節Ni向其電荷轉移,實現Ni表面CH4可控C-H鍵斷裂,同時強化CO2吸附活化。

2. 大量高度配位不飽和CeO2納米島有助于促進CO2吸附活化,從而強化“消碳過程”。

3. 帶正電荷CeO2納米島覆蓋SiO2表面,由于其“疏碳效應”,改變了積碳類型和落位,有效避免了Ni位點積碳失活。

4. 通過調節CeO2納米島在SiO2表面的濃度,觀察到CH4轉化與CeO2含量呈火山型曲線關系。優化催化劑用于DRM反應,實現了CO2和CH4轉化率分別為96%和92%,無副反應、無失活穩定運行2000小時。

3.png

圖2. CeO2納米團簇對催化劑積碳消碳行為的影響,(A)還原后Ni/10Ce-SiO2催化劑TEM表征、(B)Ni/SiO2催化劑反應50h后TEM表征、(C)Ni/10Ce-SiO2催化劑反應50h后TEM表征、(D,E)Ni/10Ce-SiO2催化劑反應2000h后TEM表征、(F)Ni/yCe-SiO2催化劑反應50h后的O2-TPO表征、(G)原位還原后800°C下催化劑CH4脈沖實驗、(H)CH4脈沖實驗后催化劑原位O2-TPO表征、(I)CH4脈沖實驗后催化劑原位CO2脈沖實驗、(J)CO2脈沖實驗后催化劑原位O2-TPO表征、(K)原位還原后,800°C下CH4-D2交換脈沖實驗的交換度、(L)原位還原后,催化劑與5 wt%活性碳混合,800°C下CO2脈沖實驗的CO產率。

TEM表征結果顯示,CeO2顆粒尺寸約為1.5nm,且均勻分布在球形SiO2載體表面,Ni的顆粒尺寸約為25-30nm(圖2A)。50h的DRM反應后,未經CeO2納米島修飾的Ni/SiO2催化劑被大量無定形積碳包裹(圖2B)。然而,經CeO2納米島修飾的Ni/10Ce-SiO2催化劑,積碳主要以石墨碳形式出現,且遠離催化劑表面,顯著抑制了其對Ni活性位點的覆蓋(圖2C)。在2000h反應后的催化劑中也觀察到同樣現象(圖2D和E),充分說明CeO2修飾能夠有效調節催化劑積碳行為。此外,50h反應后的催化劑的O2-TPO表征結果說明,CeO2修飾有利于積碳氧化,能顯著提高消碳能力(圖2F)。為進一步探究CeO2對催化劑積碳、消碳行為的影響,在反應溫度(800°C)下進行了一系列模型脈沖反應。CH4脈沖與后續O2-TPO實驗結果表明,CeO2引入能夠輕微減弱CH4解離速度,減慢碳沉積速率(圖2G和H)。CH4脈沖、CO2脈沖與后續O2-TPO實驗結果表明,CeO2引入能夠大幅提高CO2的消碳速度(圖2I和J)。此外,CH4-D2交換脈沖實驗(圖2K)進一步證明CeO2引入能夠輕微減弱催化劑對CH4的C-H鍵的活化能力,而CO2-活性碳脈沖氧化實驗(圖2L)也進一步證明CeO2對消碳反應的促進作用。

4.jpg

圖3. CeO2納米團簇對(A)CH4在Ni位點上的解離、(B)表面Ni原子的d帶中心、(C)Ni位點上消碳反應(*CO2+*C→2*CO)和(D)CO2在Ni位點上吸附能的影響,以及(E-H)在Ni/SiO2和Ni/Ce-SiO2催化劑上各種消碳反應路徑示意圖。

采用DFT計算探究了超細CeO2納米島對催化劑積碳、消碳反應行為的影響機制。結果表明,CeO2通過吸電子作用降低金屬Ni位點的d電子數量,提高了CH4中C-H鍵解離能壘(圖3A和B)。CeO2吸電子作用也有利于增強Ni與CO2中C原子之間相互作用,進而削弱C-O鍵,降低消碳反應能壘(圖3C和D)。此外,基于DFT計算對比了金屬Ni位點、CeO2促進金屬Ni位點、CeO2氧空位和CeO2晶格氧四種活性位點上的消碳反應路徑(圖3E-H),發現CeO2促進金屬Ni位點是催化劑消碳反應的主要活性位點。

5.png

圖4. Ni納米粒子與CeO2的相互作用對CH4干重整催化活性和穩定性的影響,(A)反應活性與CeO2納米島含量的火山型曲線關系、(B)2000 h催化劑穩定性測試結果,長周期反應后催化劑的表征(C)熱重分析、(D)XRD、(E,F)Ni和CeO2的粒徑分布,以及(G,H)HADFF-STEM和元素Mapping表征。

結合上述研究結果,進一步探究了Ni與CeO2相互作用對DRM反應催化活性與穩定性的影響。首先,隨著Ni與CeO2相互作用增強,催化劑活性呈現出明顯的火山型關系(圖4A),適中的Ni與CeO2相互作用有利于實現更高的催化活性。在此基礎上,對Ni/10Ce-SiO2催化劑進行長周期穩定性測試(圖4B)。該催化劑在2000 h的DRM反應中CO2與CH4轉化率保持在96%和92%,且未出現明顯的失活與副反應。2000 h反應后催化劑積碳含量僅為10.7%(圖4C),表明碳沉積速率十分緩慢(0.00001 g/h)。結合XRD與TEM表征可知,2000 h反應前后的催化劑中Ni與CeO2顆粒尺寸未出現明顯變化(圖4D-F),表明該催化劑中Ni與CeO2粒子具有良好的抗燒結穩定性。此外,TEM表征結果顯示,2000 h反應后催化劑中Ni與CeO2分布較為均勻,積碳以石墨碳形式出現,且遠離催化劑表面(圖4G-H)。由此可見,本文借助超細CeO2納米島對催化劑的修飾可控調節CH4解離,同時大幅強化CO2吸附與活化,加速表面的消碳反應,并有效促進積碳物種遠離催化劑表面,從而實現了催化劑的高活性與超穩定性。

這一成果近期以題為“Strong activity-based volcano-type relationship for dry reforming of methane through modulating Ni-CeO2 interaction over Ni/CeO2-SiO2 catalysts”發表在Chem Catalysis期刊上。上述工作得到國家自然科學基金面上項目(22379053,21878127)等項目的資助。

文獻詳情:

Strong activity-based volcano-type relationship for dry reforming of methane through modulating Ni-CeO2 interaction over Ni/CeO2-SiO2 catalysts
Yufeng Li ? Zhenwei Li? Nan Wang ? Yajun Zha ? Ke Zheng ? Yuebing Xu ? Bing Liu ? Xiaohao Liu
Chem Catalysis,2024
https://doi.org/10.1016/j.checat.2024.101189

image.png

長按掃碼,查看原文


聲明:化學加刊發或者轉載此文只是出于傳遞、分享更多信息之目的,并不意味認同其觀點或證實其描述。若有來源標注錯誤或侵犯了您的合法權益,請作者持權屬證明與本網聯系,我們將及時更正、刪除,謝謝。 電話:18676881059,郵箱:gongjian@huaxuejia.cn